メインコンテンツまでスキップ
Waters Japan

ACQUITY H-Class の洗浄(シール洗浄、洗浄溶媒、パージ溶媒)の推奨溶媒は何ですか?

Article number: 14943To English version

回答

シール洗浄

  • 特に、極性移動相を使用する分離の場合は、シール洗浄システムが乾燥してはなりません。
  • イソプロピルアルコール、またはメタノールと水の混合液(20% メタノール/水など)は、THF 溶媒混合液に対する効果的なシール洗浄溶媒です
  • 逆相系のアプリケーションには、弱有機成分が含まれている(例えば 1:9 メタノール/水)水溶性シール洗浄溶液を使用します。
  • 100% 有機のシール洗浄溶液を使用しないでください。

 

洗浄溶媒(ニードル洗浄)

  • バッファー洗浄溶媒は避けます。
  • 洗浄溶媒は残留サンプルを溶解できるほど十分に強くなければならず、洗浄時間はシステムから残留物を除去するために十分に長い必要もあります。
  • HFIP をけっして洗浄溶媒中で使用しないでください。

 

パージ溶媒

  • 溶液濃度が 10% を超える THF またはヘキサンを、パージ溶媒として使用しないでください。
  • ジメチルスルホキシド (DMSO) やジメチルホルムアミド (DMF) などの一般的な有機サンプル希釈剤は、使用できます。
  • 可能な場合は常に、パージ溶媒に 90/10 水/メタノールを Waters は推奨します。

 

注意:

  • バッファーをシステム内に格納したままにしないでください。
  • システムをシャットダウンする前に、すべての流路をバッファーを含まない多量の溶媒でフラッシュ洗浄します(ニードル洗浄を含む)。
  • 長期間システムを停止したままにする場合(24 時間以上)、10% ~ 20% のメタノールを含んだ水を使用します。
  • バッファーを含む洗浄溶媒を使用する場合、30 秒以上プライムします。
  • バッファーを使用するとニードルおよび洗浄ポートに塩が蓄積されることがあるため、定期的な洗浄が必要な場合があります。